|
Ионно-плазменная установка модифицирования поверхности материалов медицинского назначенияВакуумная ионно-плазменная установка модифицирования поверхности материалов предназначена для осаждения биосовместимых покрытий методом ВЧ-магнетронного распыления. Технические данные Габаритные размеры составных частей
установки, мм, не более:
Технологический модуль (корпус) - 1300х800х1600; Стойка управления - 800х600х2000;
Размеры рабочей камеры, мм
Диаметр - 800; Высота - 180. Масса установки, кг, не более - 1000 ВЧ-магнетрон - 1;
Максимальная скорость нанесения покрытий, мкм/ч, не менее - 0,2 Максимальная нагрузка на ось держателя деталей (стола), кг - 2; Потребляемая мощность, кВт, не более - 10 Напряжение питающей сети, В - 380±19 /220±11 Число фаз питающего напряжения - 3 Частота напряжения питания, Гц - 50-60 Предельное давление в рабочей камере, Па, не более - 6.7×10-2 Расход воды в системе охлаждения, м3/час, не более - 1 Загрузка и выгрузка деталей – ручная Поддержание давления газов в камере на заданном уровне – автоматическое. Охлаждение устройств агрегата осуществляется
водой. Автоматизированная система управления (АСУ) установки, конструктивно выполненная в виде отдельного блока, состоит из управляющего персонального компьютера и технологического контроллера ADAM серии 5000 |
|