Ионно-плазменная установка модифицирования поверхности материалов медицинского назначения

Вакуумная ионно-плазменная установка модифицирования поверхности материалов предназначена для осаждения биосовместимых покрытий методом ВЧ-магнетронного распыления. 


Технические данные

Габаритные размеры составных частей установки, мм, не более:

 

Технологический модуль (корпус) - 1300х800х1600;

Стойка управления - 800х600х2000;

 

Размеры рабочей камеры, мм

 

Диаметр - 800;

Высота - 180.

Масса установки, кг, не более - 1000

ВЧ-магнетрон - 1;

 

Максимальная скорость нанесения покрытий, мкм/ч, не менее - 0,2

Максимальная нагрузка на ось держателя деталей (стола), кг - 2;


Потребляемая мощность, кВт, не более - 10

Напряжение питающей сети, В - 380±19 /220±11

Число фаз питающего напряжения - 3

Частота напряжения питания, Гц - 50-60


Предельное давление в рабочей камере,        Па, не более - 6.7×10-2

Расход воды в системе охлаждения, м3/час, не более - 1

Загрузка и выгрузка деталей – ручная

Поддержание давления газов в камере на заданном уровне – автоматическое.

Охлаждение устройств агрегата осуществляется водой.

Автоматизированная система управления (АСУ) установки, конструктивно выполненная в виде отдельного блока, состоит из управляющего персонального компьютера и технологического контроллера ADAM серии 5000



Форма входа

Наши работы

Яндекс.Метрика